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首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)--納米壓印設(shè)備-UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備
產(chǎn)品型號：
簡要描述：UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，操作簡單、功能強(qiáng)大的臺面型納米壓印光刻設(shè)備?？蓪?shí)現(xiàn)4英寸以下基底面積上高精度（優(yōu)于10nm * ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 * ）納米結(jié)構(gòu)壓印，適合用作紫外納米壓印光刻工藝開發(fā)，器件原型快速驗(yàn)證，納米壓印材料測試等研發(fā)。
廠家實(shí)力
Manufacturer Strength
有效保修
Valid Warranty
質(zhì)量保障
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UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，操作簡單、功能強(qiáng)大的臺面型納米壓印光刻設(shè)備。可實(shí)現(xiàn)4英寸以下基底面積上高精度（優(yōu)于10nm * ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 * ）納米結(jié)構(gòu)壓印，適合用作紫外納米壓印光刻工藝開發(fā)，器件原型快速驗(yàn)證，納米壓印材料測試等研發(fā)。它沿用天仁微納量產(chǎn)型納米壓印設(shè)備的工藝與材料體系，在UniPrinter上開發(fā)的工藝可以無障礙轉(zhuǎn)移到天仁微納其它量產(chǎn)設(shè)備上進(jìn)行生產(chǎn)。
UniPrinter納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED等應(yīng)用領(lǐng)域的研發(fā)。
● 沿用天仁微納量產(chǎn)型納米壓印設(shè)備的工藝與材料體系，開發(fā)的工藝可以無障礙轉(zhuǎn)移到量產(chǎn)設(shè)備上進(jìn)行生產(chǎn)
● 直徑100mm以下面積高精度、高深寬比納米壓印
● 設(shè)備內(nèi)自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具
● 自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程無需人工干預(yù)
● 標(biāo)配高功率紫外LED面光源（365nm，光強(qiáng)>300mW/cm2 ），支持各種納米壓印材料
● 隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程，幫助客戶零門檻達(dá)到高質(zhì)量的納米壓印水平
| 兼容基底尺寸 | 直徑≤100mm |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
| 納米壓印技術(shù) | 適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印 |
| 壓印精度 | 優(yōu)于10納米* |
| 結(jié)構(gòu)深寬比 | 優(yōu)于10比1* |
| 殘余層控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光強(qiáng)>300mW/cm2 |
| 自動壓印 | 支持 |
| 自動脫模 | 支持 |
| 自動工作模具復(fù)制 | 支持 |
| 上下片方式 | 手動上下片 |
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